| 原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法 |
| CN201710329863.7 2017-5-11 发明申请 |
| 2017-8-4 |
| 本发明公开了一种原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，包括以下步骤：1)配置浓度为0.1~5?wt%的有机高分子溶液并静置24h；2)沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；3)将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；4)取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质。 |
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