| 一种用于测量重叠，剂量或聚焦在使用扫描电子显微镜(SEM)预图案化硬掩模结构 |
| WOUS15067195 2015-12-21 发明申请 |
| 2017-6-29 |
| 一种用于测量重叠，剂量，或聚焦在预图案化硬掩模结构，使用扫描电子显微镜(SEM)进行了描述。在一个实施例中，一种数据传输的方法，扫描电子显微镜(SEM)的度量的半导体结构包括 : 提供半导体结构，其具有一底层包括预图案化的光栅结构具有间距。该方法还包括提供在所述下伏层的叠层体，所述覆层包括栅图案具有节距不同于所述预图案化的光栅节距结构所述下面层。所述方法还包括用于覆盖上面层中的失配测量相对于预图案化的光栅结构所述基底层上用的检测位置的底层photobucket第一清零。 |
微信公众号