| 样本分析仪及清洗控制方法 |
| CN202310356490.8 2023-3-27 发明申请 |
| 2023-10-17 |
| 本申请实施例提供了一种样本分析仪及清洗控制方法，其中，样本分析仪设置有不同的第一清洗模式和第二清洗模式，在第一清洗模式的状态下，样本分析仪按照执行第一清洗操作，以对目标器件进行清洗；在第二清洗模式状态下，样本分析仪执行第二清洗操作，以对目标器件进行清洗，且在第一清洗模式状态下样本分析仪对目标器件的最大清洗高度小于在第二清洗模式状态下样本分析仪对目标器件的最大清洗高度。本申请所提供的样本分析仪提供了至少两种清洗模式，从而可以根据目标器件的污染程度选用对应的清洗模式进行清洗，以提高目标器件的清洗效果。 |
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