| 芯片流道结构、纳米孔测序装置及成膜方法 |
| CN202310635717.2 2023-5-17 发明申请 |
| 2023-9-29 |
| 本申请提供了一种芯片流道结构、纳米孔测序装置及成膜方法，沿通入物流通方向，所述芯片流道结构包括：顺次设置的第一过渡区、芯片入口区、芯片区、芯片出口区和第二过渡区；所述第一过渡区与所述芯片入口区呈角度设置，所述第二过渡区与所述芯片出口区呈角度设置；所述芯片区形成有凹陷的测序孔；所述芯片入口区和所述芯片出口区分别与所述芯片区形成大于90°的夹角。本发明能够保证在置换成膜的过程中，使得通入物的界面平移地扫过芯片区内的测序孔，以实现有效置换，从而保证各个测序孔中成膜位置的一致性，避免通入物在流经各个测序孔时因流序和流速的不同而导致的成膜差异，进而可以在较宽的流速范围内实现多相流体的均匀流动和有效置换。 |
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