| 用于试样处理设备管理系统，试样处理装置，管理装置，和管理方法。 |
| EP11812034 2011-7-25 发明申请 |
| 2013-6-5 |
| 本发明提供一种样品处理装置管理系统，样品处理装置和一种管理装置，和一个管理方法，其可以精确地和容易地调整所述各个样品处理装置，而不管它们的个体差异的。当异常发生在一个样品分析仪，该样品分析仪请求批准用于自调整从管理服务器。所述管理服务器确定是否允许所述的自调整性能，和当具有确定的，以允许所述自调节; 通知所述样品分析仪所述批准用于所述自调节的。当所述批准用于所述的自调整已经通知，所述样品分析仪进行所述自调节。 |
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