| 一种光照射装置，显微镜和激光加工装置 |
| JP2012248443 2012-11-12 发明授权 |
| 2016-7-13 |
| 光照射装置1A的装置，用于照射照射对象B，包括光源(10)输出的读出光(L1)，空间光调制器20调制相位调制的读出光(L1)的光(L2)，和30a进行双面远心光学系统包括透镜(31)光学耦合到相位调制平面20所述空间光调制器(20)和透镜(32)之间的光学耦合透镜(31)和被辐射物B。相位调制平面20和光学耦合和相位调制被照射物体之间的光学距离B。平面20和透镜31的焦距基本等于透镜31。空间光调制器的相位调制的相息图20显示菲涅尔型平面(20)。光照射装置，能够容易地变更调制光的照射位置在光轴方向由此实现。 |
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