| 重叠测量方法，测量装置，扫描电子显微镜和GUI. |
| JP2014214971 2014-10-22 发明申请 |
| 2015-2-5 |
| 要解决的问题 : 提供一种方法，用于容易和明显地测量重叠的区域中的实际装置电路图案形成在制造半导体装置. 溶液 : 一种重叠测量方法是一种方法，用于测量重叠的半导体装置，其中电路图案形成通过多个两次曝光步骤. 该方法包括 : 图像拾取步骤拾取的图像的多个区域的半导体装置. 参考图像设定步骤，设定参考图像从在所述多个拍摄的图像，拾取在图像拾取步骤. 一种差分量化的步骤量化参考图像之间的差设定在参考图像设定步骤，所述多个拾取的图像拾取在图像拾取步骤的. 和覆盖计算步骤，计算覆盖基于差值差分量化步骤中量化. 版权 : (C)2015，补正. |
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