微流体装置的清洗方法和清洗液
 
JP2010186859  2010-8-24  发明申请

2012-3-8
 
  要解决的问题 : 以提供一种清洗方法与其中一个微芯片的性能可以恢复; 和一清洗液。溶液 : 本发明涉及一种清洗方法的一种微流体装置,包括清洗流体通道,其被形成在所述的微流体装置和具有一表面具有聚合物涂层,并与其中一个样品含有核的酸和\/或蛋白是接触,通过使所述流体通道接触,与一个清洗液由仅一种有机溶剂的具有水溶解度至少到所述相同体积的水在25a°C,或一个含有所述的有机溶剂清洗液50体积。%或更多的一种缓冲液中。在所述的清洗方法,所述所述缓冲液的pH是8至10; 所述的缓冲液还含有一种蛋白质变性剂3到8am; 或所述所述缓冲液的pH是2至4。版权 : (C)2012,inpit
 
仿站