| 样品的分析方法和样品分析仪 |
| JP2011177440 2011-8-15 发明申请 |
| 2013-2-28 |
| 要解决的问题 : 以提供一种样品的分析方法和一种样品分析仪，其准确地分析一基板，其主要由含硅和具有一个氧化膜的一种不稳定的中间氧化物在其表面通过使用氧的主离子。溶液 : 一样品的分析方法包括 : 提供一氧离子到一表面的预处理步骤的一个分析样品主要由含硅和具有一个氧化膜的表面上的一个中间氧化物在一个能量90eV或更小的范围来修改所述氧化物含有所述中间氧化物膜; 和一步骤后进行二次离子质谱所述的预处理步骤。版权 : (C)2013，inpit |
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