| 样本分析仪 |
| JP2005275530 2005-9-22 发明授权 |
| 2011-3-9 |
| 要解决的问题 : 得到高精度时差校正试样分析装置在非接触测量。？ 方法 : 待测扫描的部分(9)与激发光偏转MEMS(微机电系统)镜114，和散射光和荧光从样品发射的光由扫描和检测从多个检测点的待测部(9)通过图像传输光纤(130)和进入荧光处理单元30。控制和信号处理单元50，在从荧光信号处理单元30输入创建时间用于散射光和荧光型材从所述信号光。在时间，单元50上的时间信息校正时间谱根据扫描点和检测点和计算的特点内的待测部(9)从校正时间的图。？ 版权 : (C)2007，隆起部？ |
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