| 用於具有嵌入式扫描电子显微镜结构重叠目标的重叠之装置相关量测 |
| TW102132263 2013-9-6 发明申请 |
| 2014-5-16 |
| 本发明之态样描述一种用於量测一装置之两个实质上共平面层之间的一相对位置之目标。该目标包括第一层及第二层中之周期性结构。可量测该第一周期性结构及该第二周期性结构与各别似装置结构之间的该第一层及该第二层之相对位置之差, 以校正该第一周期性结构与该第二周期性结构之间的该第一层及该第二层之该相对位置。应强调, 提供此摘要以符合规则, 该等规则需要将允许一搜寻者或其他读者快速地确定技术揭示内容之标的之一摘要。该摘要系基於其将不用以解译或限制申请专利范围之范畴或涵义的理解而呈递。 |
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