| 备份排气室，样品处理设备，样品分析仪设备，样品处理方法，和样品的分析方法。 |
| JP2006035371 2006-2-13 发明申请 |
| 2007-8-23 |
| 要解决的问题 : 以提供一备份排气室，其可以降低有机物质污染的粘附到样品; 和，以提供一种样品处理设备，一个样品分析仪设备，一个样品处理方法，和一个样品分析方法。溶液 : 当晶片50和60被引入处理室3用于处理，两个晶片50和60被引入到一个备份排气室1之前的所述处理室3与它们的侧向被处理的51和61坐在相对到每个其它。然后，所述备份后排气室1内减压，两个晶片50和60被放置在一处理级14所述处理室3内与它们的侧向被处理的51和61坐后，以背面。同时与该放置，如氧化处理被执行。版权 : (C)2007，inpit |
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