| 并行流体处理系统和方法 |
| US10821567 2004-4-9 发明授权 |
| 2007-2-20 |
| 包括多个流体处理区域的并行流体处理系统可用于并行地进行分析和/或合成，所述多个流体处理区域包含与公共第一流体源流体连通的固体材料。 一种并行流体处理数据校正方法，包括 : 在每个流体处理区域中提供和处理校准剂； 测量第一物理参数并基于该参数导出至少一个校正因子，在每个流体处理区域中供应和处理至少一种第二流体，然后应用该校正因子以产生校正的处理数据。 可以执行保持时间校正，峰值面积校正和其它有用的数据校正。 可以用微流体装置和系统执行并行流体处理。 本发明还提供了一种用于校正并行液相色谱中的保留时间的系统。 |
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