环境扫描电镜气体注入系统
 
US13954838  2013-7-30  发明申请

2014-2-6
 
  气体注入系统在样品表面提供局部区域,该局部区域具有足够的气体浓度以被二次电子电离以中和在样品表面上带电的气体。 在一些实施例中,气体浓缩结构在表面附近浓缩气体。 气体浓缩结构中的可选孔允许带电粒子束撞击遮蔽区域的内部。 在一些实施例中,靠近表面的阳极增加了返回到工件表面以进行电荷中和的离子的数量,在一些实施例中,阳极是气体注入系统的一部分,并且在一些实施例中是单独的结构。
 
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