| 用于测量覆盖的方法，测量装置，扫描电子显微镜，和GUI |
| WOJP13052657 2013-2-6 发明申请 |
| 2013-8-22 |
| 一种用于测量的方法，其上覆盖一半导体装置的一电路图案的形成是使用多个曝光步骤，其中所述的方法用于测量覆盖其特征是在被提供有一种图像捕获步骤，用于捕获一个所述的半导体装置的多个区域的图像，一个参考图像设置步骤，用于设定一个基于参考图像在多个所述图像中捕获的图像的捕获步骤，一差-量化步骤，用于量化所述参考图像之间的差设置在所述参考图像设置步骤和所述多个所述图像中捕获的图像的采集步骤，和一个覆盖计算步骤用于覆盖所述的基础上计算该差在所述差值的量化-量化步骤。 |
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