基于扫描探针显微镜的真空隔板计量工具
 
US13705701  2012-12-5  发明申请

2013-4-18
 
  提供了一种监测半导体工艺的方法,包括使用扫描探针显微镜(SPM)监测工艺,其中第一隔板位于第二隔板下方,其中第二隔板与第一隔板气密隔离,其中SPM的SPM探针尖端设置在第一隔板中,其中SPM的剩余部分设置在与第一隔板气密隔离的第二隔板中,并且其中半导体工艺可以发生在第一隔板或第三隔板中。
 
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