| 定量化学机械抛光的抛光压力分布的测量方法，利用原子力显微镜 |
| JP2011181186 2011-8-23 发明申请 |
| 2013-3-4 |
| 要解决的问题 : 以提供一用于获取一抛光压力分布的方法从一个两维分布的一种测量表面电位通过一个EFM。溶液 : 本发明所述的方法是一种用于获取一抛光压力分布的方法化学机械抛光的。该方法包括处理获得的表面电位的一个对象图像通过测量表面电位，以被抛光，其被抛光的抛光装置与一电力显微镜，和所述表面电位转换到所述数据的基础上的抛光压力，其示出了一表面电位和一抛光压力之间的关系。版权 : (C)2013，inpit |
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