| 清洗站，用于原子力显微镜 |
| WOUS12035623 2012-4-27 发明申请 |
| 2012-11-1 |
| 一清洗站，用于彻底清洗期间所述AFM部件的表面被暴露于流体样品的成像支持一种流体介质中被公开。该清洗站被设计成有选择地露出所述AFM部件表面，以清洗剂，如肥皂\/洗涤剂和水，等离子体清洗，等，和清洁工具，例如电刷，同时保护从曝光到所述清洗流体敏感部件代理。该优选实施例中是特别有益的用于扫描器，其中所述流体中的敏感部件(致动器，传感器，连接器，等)被所述相同的装置中集成到其所述悬臂固定器被附着。 |
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