| 采用激光干涉场的共聚焦显微镜 |
| CN201110070671.1 2011-3-23 发明申请 |
| 2012-9-26 |
| 本发明公开了采用激光干涉场的共聚焦显微镜。该共聚焦显微镜包括：激光干涉场系统、分光系统、物镜系统和成像系统，其中：激光干涉场系统，用于利用多束激光干涉产生空间周期性排列的激光干涉场；分光系统，用于将激光干涉场反射至物镜系统，并将从物镜系统透射的样品反射或激发的光透射或反射至成像系统；物镜系统，用于将激光干涉场成像至样品，并将从样品反射或激发的光透射至分光系统；成像系统，用于利用分光系统透射的样品反射或激发的光成像。本发明中，利用激光干涉元件形成空间周期分布的激光干涉场点光源阵列，从而简化了共聚焦显微镜的构造，减小了其加工的难度和成本。 |
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