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产业专利数据

次优特征的扫描电镜修复

US13013947 2011-1-26 发明授权

2012-7-3

公开了一种用于修复光掩模的方法和系统。扫描电子显微镜(SEM)用于识别、测量和校正缺陷。 SEM以多种模式操作，包括测量模式和修复模式。修复模式比测量模式具有更高的着陆能量和曝光时间，并且导致光致抗蚀剂中的收缩以校正各种特征，例如过孔太小。