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光刻蚀法-基的三环化合物和药物组合物包含相同

WOUS03009549 2003-3-27 发明申请

2003-10-16

具有式(I)化合物，和药学上可接受的盐，及其水合物和前药，可用作抗炎剂; 其中R1，R2，R3是氢，卤素，烷基，或全氟烷基，R4是任选取代的烷基或环烷基基团，X是一种联剂，一种是芳基，杂芳基，杂环，环烷基，或不存在，和R7是取代基在一个作为该说明书中所定义。