用于调节伤口愈合的制剂和方法
 
US15093146  2016-4-7  发明授权

2018-8-14
 
  公开了通过调节自噬用于伤口愈合的方法和化合物。一种用于调节自噬的制剂,其包含选自具有通式结构(I)的化合物的第一调节化合物(FAM):其中:L代表选自-C≡C-、(a tolan)、-CH=CH-(A芪,优选反式)的接头;或-CRa=CRb-A芪衍生物;其中Ra和Rb独立地是H或任选地被-(R3)p或-(R4)q取代的苯基;R1至R4是在苯环的任何可用位置上的独立取代基,优选在3,3’,4,4’,和/或5,5’;并且m、n、p和q分别独立地为表示环的取代基的数目的0、1、2或3,但是m或n中的至少一个必须≥1。R1至R2各自独立地选自本文所述的取代基,包括但不限于羟基、烷氧基、卤素、卤代甲基和糖苷。所述制剂还可包含如本文所述的辅助自噬调节化合物(AAM)。所述制剂可包括由所述化合物本身或以其他方式形成的水凝胶,并且可包括盐和/或复合物。
 
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