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| - 溅射功率对In_2S_3薄膜结构及其性能的影响
- 作者：黄亚;徐展;邱于珍;陈传文;庄凤江;苏少... 来源期刊：磁性材料及器件 年卷号：2016(5).8-11+31
- 摘要：以不同功率溅射制备了CoFeB合金薄膜样品并在高真空下退火处理。发现低功率生长的薄膜始终具有磁各向同性,而高功率生长的薄膜随着退火温度的升高,由起始的单轴磁各向异性逐渐向磁各向同性转变。X射线衍射分析也印证了CoFeB薄膜随退火温度的升高,薄膜由非晶态逐渐向结晶态转变?
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- Photoelectrochemical study of MoO_3 assorted morph...
- 作者：R.Senthilkumar;G.Ana... 来源期刊：Journal of Energy Chemistry 年卷号：2016(5).798-804
- 摘要：Molybdenum oxide nanostructured thin films were grown on fluorine doped tin oxide(FTO), indium doped tin oxide(ITO) and ordinary glass substrates by t
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- 斯托克斯椭偏仪仪器矩阵的条件数评价研究
- 作者：朱清;张哲娟;孙卓;才滨;蔡雯君; 来源期刊：无机化学学报 年卷号：2016(5).782-788
- 摘要：以高纯纳米银线作为导电介质,采用低成本丝网印刷法在普通透明玻璃基底上制备纳米银线薄膜层。经低温退火处理后,采用冷场发射扫描电子显微镜对薄膜的形貌进行表征;分别采用紫外可见分光光度计和四探针测试仪对薄膜的光学透过率和导电性能进行测试。实验系统研究了印刷浆料中纳
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- NiO-TiO_2纳米复合薄膜的阻变特性
- 作者：柳兆祥;廖欣;丁丽娟;曾凡;陈建军; 来源期刊：浙江理工大学学报(自然科学版) 年卷号：2016(5).776-780
- 摘要：采用电沉积法在碳化硅纳米线薄膜上沉积镍硫合金,制备碳化硅纳米线/镍硫合金薄膜复合电极,采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)、阴极极化曲线(LSV)等分析测试方法对该薄膜的形貌、结构和电化学性能进行了表征。结果表明:镍硫合金沉积层主要以Ni_3S_2结晶态的形式
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- 镶嵌有纳米硅的SiN_x薄膜光致发光的温度依赖特性研究
- 作者：梅艳;贾曦;安彩虹;完继光;徐艳梅; 来源期刊：材料科学与工程学报 年卷号：2016(5).776-779+793
- 摘要：采用等离子体化学气相沉积(PECVD)技术在不同N_2O流量条件下制备了镶嵌有纳米晶硅(nc-Si)的富硅氧化硅(SiOx)薄膜,利用透射电镜(TEM),X射线衍射分析(XRD),傅里叶变换红外(FTIR)和透射光谱技术研究了薄膜中的氢含量和氧含量变化及其对薄膜晶化度、薄膜键合结构和光吸收特性的影?
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