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| - MPCVD制备大面积自支撑金刚石膜研究进展
- 作者：刘繁;翁俊;汪建华;王秋良;孙祁; 来源期刊：真空与低温 年卷号：2016(3).132-137
- 摘要：微波等离子体(MPCVD)法因其独特的优势,成为高速、大面积、高质量制备金刚石膜的首选方法,MPCVD金刚石膜装置的研究受到科研人员和工业界的广泛关注。文章对金刚石膜的性质和各种制备方法进行了简要概述,论述了CVD金刚石膜的生长机理,着重阐述了各种MPCVD装置的结构特点及工作?
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- 依赖于参数物理溅射铜的氧化以及相关金属电阻率铜基半导体薄膜的制备（英文）
- 作者：毛迎;王富军;王璐; 来源期刊：膜科学与技术 年卷号：2016(3).131-135
- 摘要：本文概括了国内外有关聚ε-己内酯共混膜的研究情况.分析了聚ε-己内酯膜的性能,指出单组分膜的应用局限;介绍了制备聚ε-己内酯共混膜的共混方式,主要包括熔融混合和溶液共混;概况了聚ε-己内酯与聚乳酸、聚砜、壳聚糖和海藻酸盐等聚合物的共混膜,并对其性能进行了分析,重点总
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- 巴斯夫高性能Ultramid~聚酰胺——薄膜应用的最佳选择
- 作者：尉立华;王瑞;徐磊;陶强; 来源期刊：化工新型材料 年卷号：2016(3).127-129
- 摘要：以均苯四甲酸酐、尿素和氯化铜等为原料,结合冷冻干燥技术,制备溶解性较强的染料敏化剂八羧基酞菁铜(CuOCPc),并采用浸渍提拉法在ITO玻璃上制备CuOCPc薄膜。通过傅里叶红外光谱和原子力显微镜对其基团和成膜性能进行表征,并利用紫外分光光度计和光电综合测定仪研究其光电性能。
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- 混合改性PP以适用于压延较薄薄膜的研究分析
- 作者：杨恢东;王河深;李姗;李心茹;吴浪; 来源期刊：材料保护 年卷号：2016(3).12-14+6
- 摘要：目前,磁控溅射制备Zn O:Al薄膜时的溅射压强较低,若氩气流量不稳或腔室排气口处气流扰动会对溅射压强产生较大影响,影响成膜质量。为提高溅射薄膜质量,采用直流磁控溅射技术,在较高溅射压强下,以不同辉光功率在柔性衬底聚酰亚胺上制备了Zn O:Al薄膜。采用紫外可见分光光度计、,
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- 一种新型UV_DTT_pH敏感高分子材料的合成及表征
- 作者：马肥;李钟玉;杨云; 来源期刊：化工技术与开发 年卷号：2016(3).12-14+43
- 摘要：通过"点击化学"合成一种新型多重敏感高分子材料,具有光敏感、酸敏感和氧化还原敏感特性。并通过核磁共振仪和凝胶渗透色谱(GPC)进行了初步表征。
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