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| - 二次催化对SiO_2溶胶成膜性能的影响
- 作者：薛守庆;薛兆民; 来源期刊：发光学报 年卷号：2016(9).1124-1129
- 摘要：为了研究磷酸锌二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜的光电及防腐蚀性能,采用直接接触氧化技术在磷酸锌溶液中制备出掺杂聚吡咯/聚噻吩,再用磷酸锌在脱掺杂聚吡咯的基础上制备出性能优良的二次掺杂聚吡咯/聚噻吩膜。采用循环伏安曲线、扫描电镜和动电位极化曲线测试了二次掺杂聚吡咯/聚噻Z
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- 射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性
- 作者：刘丹丹;李学留;李琳;史成武;梁齐; 来源期刊：发光学报 年卷号：2016(9).1114-1123
- 摘要：利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积SnS薄膜并对其进行快速退火处理,利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、X射线能量色散谱(EDS)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)分光光度计研究了不同溅射功率(60~120 W)条件下制备的SnS薄膜的晶体结构、物相组
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- Zn,Cu共掺杂的TiO_2_SnO_2薄膜的制备及性能研究
- 作者：伞靖;魏长平;何瑞英;彭春佳; 来源期刊：发光学报 年卷号：2016(9).1109-1113
- 摘要：用溶胶-凝胶法制得Zn,Cu共掺杂的TiO_2∶SnO_2凝胶,旋转法于玻璃基底镀膜,制备出Zn,Cu共掺杂的TiO_2∶SnO_2薄膜,探讨了掺杂比例、煅烧温度对其结构、形貌和性能的影响。采用XRD、FTIR、FESEM、PL等测试技术对薄膜进行表征,并考察了其对甲基橙的光催化降解性能。结果表明:
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- ZrN力学性质与电子结构的第一性原理研究
- 作者：杜军;杨吉哲;王尧; 来源期刊：表面技术 年卷号：2016(8).98-102
- 摘要：目的研究物理气相沉积技术制备Zr/C纳米多层自蔓延反应薄膜的可行性,以及多层膜的结构和反应特征。方法利用扫描电镜法(SEM)、透射电镜法(TEM)、能谱分析法(EDS)、X射线衍射法(XRD)、差示扫描量热法(DSC)等手段,对薄膜的微观形貌、周期结构、成分组成、晶体结构及反应特征等进
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- Study of a ternary blend system for bulk heterojun...
- 作者：Zubair Ahmad;Farid T... 来源期刊：Chinese Physics B 年卷号：2016(8).98-101
- 摘要：In this research, we report a bulk heterojunction(BHJ) solar cell consisting of a ternary blend system. Poly(3-hexylthiophene) P3 HT is used as a dono
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