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| - 21世纪的光学和光电子学讲座：第四讲 光全息术及相关产业的现状与发展
- 作者：刘守[1] 王天及[2] 来源期刊：物理 年卷号：2000,29(2).-105-110
- 摘要：简要地叙述了光全息术半个世纪以来的发展，并就其应用较为广泛和产业化较为成熟的全息干涉计量全息存贮、显示全息和模压全息及其产业的现状与发展作了概述。
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- 21世纪的光学和光电子学讲座：第三讲 信息网络与半导体光电子学
- 作者：吴荣汉 来源期刊：物理 年卷号：2000,29(1).-45-49
- 摘要：文章从光信息的传输、交换与处理、存储与读出、获取与显示等重要技术领域的发展，介绍了半导体信息光电子学的现状以及在未来信息网络发展中的关键地位。
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- 真热处理对4CrMoV1Si模具特种性能的影响
- 作者：刘静安 来源期刊：轻合金加工技术 年卷号：2000,28(8).-27-30
- 摘要：用透射电镜、扫描电镜、光学显微镜和体视显微镜，观察分析了挤压铝合金钐４Ｃｒ５ＭｏＶ１ Ｓｉ钢模具经不同真空热处理后的显微组织和热磨损、热疲劳的表面形貌，从而优选出合理的真空热处理工艺。用工具显微镜和块规测量了真空热处理的变形量，试验结果表明，经１０４０℃真空加热，０．１３３～８００００Ｐａ气压下真空油淬，６００℃...
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- 用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶
- 作者：徐平 陆卫昌 来源期刊：同济大学学报：自然科学版 年卷号：2000,28(5).-572-574
- 摘要：介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或低磷酸腐蚀的方法，制备用于测量Ｘ光成像系统像传递函数的Ａｌ静态成像靶的工艺，对两种腐蚀工艺进行了比较，确定了郭束刻蚀是获得所需图形的理想方法，经扫描电镜（ＳＥＭ）和台阶仪测量，Ａｌ静态成像靶的参数满足实验要求。
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- 模具涂层的远景方向
- 作者：李良福 来源期刊：五金科技 年卷号：2000,28(4).-23-24,32
- 摘要：本文研究了在模具工作元件上涂层的各种方法：离子一等离子法，离子注入、等离子化学注入，爆炸喷涂。评估了这些方法对提高具耐用度的影响。确定了爆炸涂是最有前景的涂覆方法。
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