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| - Interference from Two-Photon Sources in Silica-on-...
- 作者：黎星云;秦璐;张家顺;任梅珍;安俊明;杨... 来源期刊：Chinese Physics Letters 年卷号：2017,34(03):70-73
- 摘要：The integrated photonic chip is a promising way to realize future quantum technology.Here we demonstrate a two-photon in
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- 基于SOPC的可穿戴式体感信息测试方法研究
- 作者：马瑾; 来源期刊：晋中学院学报 年卷号：2017,34(03):69-73
- 摘要：体感信息采集系统作为运动分析领域的一种精确量化分析工具,广泛运用于在体育运动的动作采集量化、运动习惯分析、动作比较优化以及数字化裁判等方面.而现有的体感信息采集系统均不适合应用到体育领域中,非常有必要研究一种全新的方法.对体感信息的获取方法
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- 基于RTL级硬件木马的检测方法
- 作者：成祥;李磊;程伟; 来源期刊：微电子学与计算机 年卷号：2017,34(03):56-60
- 摘要：随着集成电路产业的飞速发展和产业布局的改变,交由第三方设计制造的芯片越来越流行,如何保证芯片设计安全成为了人们日益关注的问题.对此,以目前硬件木马检测的主要方法为背景,以AES木马为基准电路,从RTL级语言结构出发,依据perl语言强大的文
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- 一种降低光刻工艺中静电损伤的方法
- 作者：沈今楷;刘春玲;王星杰; 来源期刊：集成电路应用 年卷号：2017,34(03):53-55
- 摘要：集成电路光刻工艺中,由于静电造成晶圆缺陷、电学失效或者低良率的情况时有发生。这是一种低成本的工艺方法(低功率等离子体轰击),释放积聚在晶圆表面的静电,主要研究了静电产生的机制、降低静电损伤的效果和内在机制。
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- EUV光刻技术与摩尔定律
- 作者：邹志同; 来源期刊：集成电路应用 年卷号：2017,34(03):50-52
- 摘要：光刻技术要数现代集成电路上的第一大难题。光蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素。但是实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。现在,晶圆制造的工艺技术发展的确到了一个转折点。有人认为EUV光刻能够拯救摩尔定律,但事实是否真的如此还有待验
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