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  • 集成电路低功耗设计方法
  • 作者:李林华;    来源期刊:电子测试    年卷号:2016,(05):9-10
  • 摘要:针对当前集成电路低功耗的需求,对当前几种常用的低功耗设计方法和技术进行探讨,包括算法优化、工艺优化、版图优化、门级优化等,从而为当前继承电路优化提供借鉴参考。

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  • 台积电6英寸厂也发力,将推出GaN快充芯片
  • 作者:    来源期刊:半导体信息    年卷号:2016,(05):8-9
  • 摘要:晶圆龙头台积电先进制程技术再次向前大步跃进,看好快充电源管理IC市场潜力,协同合作伙伴戴乐格半导体(Dialog Semiconductor),将于明年第1季推出首颗氮化镓(GaN)手机快充晶片,挑战快充晶片龙头德仪(TI)及恩智浦(NXP

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  • 毫米波电路用基板材料技术的新发展(上)
  • 作者:祝大同;    来源期刊:覆铜板资讯    年卷号:2016,(05):7-16
  • 摘要:本论文对近年毫米波电路基板市场的迅速扩大的背景下,应用于毫米波电路的高频微波型覆铜板技术的发展作了综述,并对其发展趋势、特点作了分析。

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  • 板级DDR3的EMI抑制
  • 作者:陈德恒;吴均;    来源期刊:安全与电磁兼容    年卷号:2016,(05):62-64+70
  • 摘要:某DDR3辐射超标,通过串联电阻、ODT技术等方式改善信号反射从而抑制其EMI。最终的仿真结果表明,在DDR3系统中,串联电阻减小了7%的远场能量,25%的近场能量;ODT技术减小了5%的远场能量,40%的近场能量。

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  • 厚膜混合微电子芯片共晶焊工艺研究
  • 作者:李波;夏俊生;李寿胜;    来源期刊:新技术新工艺    年卷号:2016,(05):6-10
  • 摘要:为满足散热和封装内部气氛控制要求,厚膜混合微电子多采用芯片共晶焊工艺。采用分组试验的方法,通过内部气氛检测、X射线照相等试验手段,得到了共晶焊工艺中的关键工艺方案。

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