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| - 芯片功耗与工艺参数变化_下一代集成电路设计的两大挑战
- 作者：骆祖莹. 来源期刊：计算机学报 年卷号：2007,(7):1054-1063
- 摘要：目前Intel、AMD、IBM等国际著名厂商均将其集成电路生产工艺全面转入65nm制程,对于以高性能为目标的高端芯片设计,受到了来自成本、设计与测试复杂性等方面的诸多挑战．文中主要论述了其中两个重要而具体的挑战:高功耗和日益显著的工艺参数变化(process variation)．首先分析了纳米工艺下芯片功耗的组成...
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- 基于0.6μm CMOS工艺的pH值传感器集成电路设计和研究
- 作者：施朝霞, 朱大中. 来源期刊：传感技术学报 年卷号：2006,(6):2501-2504
- 摘要：介绍了一种基于上华0.6μmCMOS工艺实现的pH值传感器集成电路的设计和研究,它采用标准CMOS工艺提供的Si3N4钝化层作为氢离子敏感层,并以多层浮栅结构的ISFET作为传感单元.信号处理电路由基准电流源、恒流恒压控制电路、输出差分电路等组成,使电路输出信号与pH值的变化量呈线性关系.实测结果表明该电路在溶液p...
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- 同步数字集成电路设计中的时钟树分析
- 作者：殷瑞祥,郭镕,陈敏. 来源期刊：华南理工大学学报(自然科学版) 年卷号：2005,(6):46150
- 摘要：时钟树的设计是同步数字集成电路设计中的一个重要部分,对系统的性能和可靠性有很大影响.文中介绍了同步数字系统的组成和时钟偏移的定义,提出了一种时钟树结构的设计方法,基于该方法用布局布线工具Astro对一个8051芯片进行了自动时钟树分析和指定结构的时钟树分析.结果表明,用文中方法设计时钟树结构能得到比自动时钟树分析更...
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- 我国集成电路设计产业发展现状及对策研究
- 作者：陈银燕,朱樟明. 来源期刊：科技进步与对策 年卷号：2005,(1):78-80
- 摘要：基于我国集成电路设计产业的系统分析,总结了各地区集成电路设计产业的现状及我国集成电路设计产业存在的主要问题。在此基础上,提出我国集成电路设计产业要实现快速发展可以采取的一些对策。
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- 异步集成电路设计的研究与进展
- 作者：赵冰,黑勇,仇玉林. 来源期刊：半导体技术 年卷号：2004,(5):46310
- 摘要：回顾了异步集成电路设计发展的历史,阐述了当前异步集成电路重新引起重视的原因,总结了异步集成电路的优势,并对异步集成电路设计方法进行了简要地概括,介绍了实用的异步集成电路芯片,最后分析了异步集成电路面临的挑战,并揭示了它今后的发展方向。
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