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| - 程序用于所述无机通过质谱分析
- 中文摘要：一种无机通过质谱分析的方法包括处理一表面与一种螯合试剂，使无机元素可以直接制成易失性和解吸从所述表面，暴露所述体积通过所述擦拭表面或拭子所述亚稳态原子和分子的表面到流在大气压力电离易失性化合物，和通过所述电离易失性的化合物以一质谱仪或该等。
- 申请日：2010-5-14 申请号：：AT10162864
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- 金属碳化物用于所述取样锥表面涂层的质量光谱仪
- 中文摘要：一个采样锥体3和\/或一个锥气体锥4和\/或一种提取锥8的质量光谱仪本发明公开了一种具有一金属碳化物表面或涂层，所述金属碳化物表面或涂层可以包括一种过渡金属碳化物; 碳化物合金，或一混合金属碳化物合金，但优选包括钛碳化物。所述涂覆的表面被预期到降低吸附材料的接触与该表面上的所述采样或提取的锥体。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：GB1008055
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- 激光解吸\/电离方法使用纳米线
- 中文摘要：本发明指的是使用纳米线的方法涉及激光解吸\/电离质谱分析仪，具体地，本发明根据质量分析仪设置垂直于衬底的方法，以满足2所述像素之间的关系的关系和1纳米线的多个的一种分析物以质量包括所述的步骤 : 定位一个样品，所述样品纳米线是在位置和用于所述样品是可拆卸的激光是入射在测试该样品的所述解吸\/电离是连接。以所述半导体...
- 申请日：2010-5-13 申请号：：KR1020100045117
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- 金属硼化物离子源中的表面涂层
- 中文摘要：一个电子冲击(ei)或化学电离(Ci)用于一质谱仪是本发明公开了一种离子源包括一金属硼化物涂层或表面上。所述金属硼化物涂层或表面可以被提供，例如，在至少一个部分的一个或多个电离室2，一个或多个鸟电极3，或一出口板或出口孔，通过其中离子被发送，所述金属硼化物涂层或表面可以包括一种过渡金属硼化物或二硼化，硼化物或二硼化...
- 申请日：2010-5-13 申请号：：GB1008064
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- 质谱仪的采样锥体
- 中文摘要：一取样锥(3)的质谱仪是本发明公开了一种其中，所述取样锥(3)是由从一个过渡金属，其具有被进行离子注入。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：WOGB10000957
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