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| - 质谱仪的采样锥体上表面涂层
- 中文摘要：一取样锥(3)的质谱仪是本发明公开了一种具有一金属硼化物涂层，如钛二硼化。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：WOGB10000965
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- 改进的离子源，用于质谱
- 中文摘要：一种离子源是本发明公开了其中该离子源是由从一种过渡金属(特别是钛)，其具有被进行离子注入。传统的离子源可以遭受增加的表面污染以下规则分析的复杂的矩阵中提取。一个注入过渡金属如钛提供一种更坚固和更少的反应性表面，因此需要较少的广泛清洗，以保持所述相同的高性能。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：GB1008050
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- 金属硼化物用于所述取样锥表面涂层的质量光谱仪
- 中文摘要：一个采样锥体3和\/或一个锥气体锥4和\/或一种提取锥8的质量光谱仪本发明公开了一种具有一金属硼化物表面或涂层。所述硼化物表面或涂层可以包括一种过渡金属硼化物或二硼化，硼化物或二硼化合金，或一混合金属硼化物或二硼化合金，但优选包括钛二硼化。涂覆的表面是旨在降低吸附材料的接触与该表面上的所述采样或提取的锥体。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：GB1008054
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- 质谱仪的采样锥体上表面涂层
- 中文摘要：一取样锥(3)的质谱仪是本发明公开了一种具有一金属碳化物涂层，如钛碳化物。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：WOGB10000967
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- 类金刚石碳涂层的表面上的一质谱仪的采样锥体
- 中文摘要：一取样锥\/锥-气体锥\/提取锥一质谱仪是本发明公开了一种具有一金刚石等的涂层，DLC，从而提供一种更坚固和更少的反应性表面，用于所述锥和提供所述锥到需要更少的广泛的清洗。
- 申请日：2010-5-13 申请号：：GB1008038
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