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| - 设备和方法用于控制一显影工艺，其
- 中文摘要：目的 : 一种装置和一显影工艺是提供一种用于控制方法，以减少使用的显影剂和以降低一种通过适当地控制所述显影工艺显影时间使用一个质量分析仪可检测的所述变化副产物的浓度排出的从一个排气端口。结构 : 一种装置，用于控制一显影工艺包括排气端口; 质量分析仪和一个控制模块。所述排气端口(210)被用于提供一种显影剂转移到一...
- 申请日：2005-12-28 申请号：：KR1020050132417
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- 离子阱质谱和装置。
- 中文摘要：要解决的问题 : 以提供一种离子阱质谱仪，其质量数-电荷比的范围中在所述碰撞引起的解离操作的时间被放大，使得所述碰撞引起的解离的操作中的缺陷该离子阱质谱仪可以被克服，和一个样品中的许多结构信息可被获取。溶液 : 在所述离子阱碰撞引起的解离操作，多个数量的不同的操作的主高频率电压被进行，其被操作以围绕所述的中间区域0...
- 申请日：2005-12-28 申请号：：JP2005376853
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- 射流-rempi系统用于气体分析
- 中文摘要：要解决的问题 : 提供一喷射-rempi(谐振增强的多光子能够连续的电离)用于气体分析装置，以及高灵敏地定量的分析一具体一个测量目标气体中的感兴趣的分子作为它是不使用一常规脉冲阀，当测量成分的组合物的燃烧气体或大气气体。溶液 : 所述气体分析仪是由一种气体引入的系统，一真空室，一个电离室，一激光照射系统和飞行时间质...
- 申请日：2005-12-26 申请号：：JP2005371325
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- 质量光谱仪
- 中文摘要：一矩阵辅助激光解吸电离离子源或离子公开了一种成像装置包括一个激光器(1)和一个变焦透镜(3，4，5)。所述变焦透镜(3，4，5)被设置到能够改变所述激光束的放大率其被引导到一个目标区域，样品表面或目标板(13)所述离子源或离子的成像装置。
- 申请日：2005-12-23 申请号：：CA2590009
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- 离子碎裂参数选择系统和方法
- 中文摘要：在一些实施例中，串联(MS/MS)质谱方法包括选择用于四极离子阱的碰撞诱导离解(CID)电压幅度和Q参数值，以针对给定的母体离子质荷比(m/z)优化子离子碎裂过程。 Q和CID电压值可以根据查找表和/或使用近似解析表达式来选择。 m/z值和(q，cid)值对之间的对应关系可以通过预测量校准来建立。 可以根据m/z计...
- 申请日：2005-12-23 申请号：：US11317854
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