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| - 曝光系统的控制方法、使用其的曝光方法和系统、以及器件的制造方法
- 中文摘要：公开了一种用于控制曝光系统的方法，其能够长时间保持光学装置的良好特性。 具体而言，通过质谱仪(87)监测作为劣化因素的气体例如氧化气体或涂膜形成气体的分压，并且相应地在控制单元(90)的控制下从气体供应单元(86)向真空容器(84)中供应劣化抑制气体。 因此，构成投影光学系统(70)等的光学器件的光学特性可以长时间...
- 申请日：2005-8-8 申请号：：SG2007008055
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- 曝光装置的控制方法、使用该方法的曝光方法及装置、以及元件制造方法
- 中文摘要：本发明的目的在于提供一种能长期间良好地维持光学元件的特性的曝光装置的控制方法。藉由质量分析装置87来监测氧化性气体及被膜形成气体等恶化要因气体的分压，在控制装置90的控制下，将来自气体供应装置86的恶化抑制气体适当导入真空容器84中，因此能长期间良好地维持构成投影光学系统70等的光学元件的光学特性。又，藉由照度传感...
- 申请日：2005-8-8 申请号：：CN200580022523.5
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- MALDI样板
- 中文摘要：公开了一种MALDI样品板1，其包括具有圆形凹槽或沟槽3的金属基底2。 将疏水性聚四氟乙烯层4施加到衬底2上，并且对衬底2的中心部分5进行激光蚀刻，该激光蚀刻使衬底2的表面粗糙化。 然后将薄的聚苯乙烯层施加到聚四氟乙烯层4和中心部分5上。
- 申请日：2005-8-3 申请号：：US11196820
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- MALDI样板
- 中文摘要：公开了一种MALDI样品板1，其包括具有圆形凹槽或沟槽3的金属基底2。 将疏水性聚四氟乙烯层4施加到衬底2上，并且对衬底2的中心部分5进行激光蚀刻，该激光蚀刻使衬底2的表面粗糙化。 然后将薄的聚苯乙烯层施加到聚四氟乙烯层4和中心部分5上。
- 申请日：2005-8-3 申请号：：US11196820
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- 离子源与可调的离子源的压力结合ESI-，fi-，FD，lifdi-和MALDI-元件作为电离之间以及...
- 中文摘要：本发明是指以分析物的技术实现一种软电离物质的ESI，fi，FD，lifdi，或MALDI或通过其在一个和所述相同的混合离子通过适合于调整压力的体积不改变离子源，激光辐射，和电场强度和检测所形成的离子或根离子通过质量光谱测定的装置和\/或电子顺磁共振光谱法。
- 申请日：2005-8-3 申请号：：GB0515923
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