|
| - 一种用于环境连续控制的质谱分析系统
- 中文摘要：一种基于使用气溶胶TOF MS连续控制环境的质谱系统，该系统提供高达98%的高占空比操作，并且可以以具有具有三个独立的数据采集和分析系统的移动单元的形式实现。 基于通过中央处理单元在系统的各种致动机构之间的恒定相互作用的数据相关性水平。 TOF MS基于使用具有静电场角梯度的四极透镜。 在入口侧， TOF MS包括...
- 申请日：2004-4-19 申请号：：US10826610
-
- 矩阵用于矩阵辅助激光解吸电离质谱分析
- 中文摘要：一矩阵，用于MALDI质量分析，其包括一由该公式(1)表示的化合物 : (1)，其中相对于R1，R2，R3和R4，它们两个或更多的是一种芳基是任选取代的卤素原子，羟基，磺酸基，羧基，烷基或烷氧基，和具有6至18碳原子的总中，它们是氢原子的一个或更少，和其余的它们被一个烷基被任选取代的具有一个卤素原子，一个羟基或磺酸...
- 申请日：2004-4-15 申请号：：WOJP04005363
-
- 时间--航班类型的质量光谱仪，和质谱分析的方法
- 中文摘要：要解决的问题 : 以提供一个时间--航班类型的分光镜具有改进的分辨率，而不降低质量的检测灵敏度时间--飞行的质量光谱仪，和质谱分析的方法。溶液 : 通过将一个阳极的质量光谱被收集到的一个检测器为多个，和连接信号记录部分以各个单独的阳极，所述光谱和质量的轴线收集在各自的记录部被单独地校正，和之后; 各自的校正光谱被添...
- 申请日：2004-4-15 申请号：：JP2004119865
-
- 质谱仪
- 中文摘要：
- 申请日：2004-4-15 申请号：：GB0408405
-
- 清洁片，承载构件与一个清洁功能的清洗衬底的处理设备和方法
- 中文摘要：目的 : 提供一清洁片以供应一清洗部件不造成污染的基板处理装置通过将硅到一个当所述清洁部件清洁层被转移到所述基板处理装置，以消除粒子从所述内侧的所述基板处理装置。结构 : 一清洁片的制备是在其一个可释放的保护膜是一清洗层上叠层。当所述保护膜是从一清洗层剥离，相对强度的一个分数离子如ch3si^+，c3h9si^+，...
- 申请日：2004-4-14 申请号：：KR1020040025960
-
|