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| - 一种电喷雾源进样装置及质谱仪
- 中文摘要：本发明公开一种电喷雾源进样装置，包括样品电离单元和进样调节单元，样品电离单元包括电离机构和呼气源主体机构，电离机构和呼气源主体机构相连并围成电离腔体，利用夹紧机构能够夹紧毛细管的一端，毛细管的另一端穿过雾化进样头伸入电离腔体内，在对电离位置进行调整时，驱动器带动夹紧机构和毛细管，沿毛细管的轴线方向往复运动，从而使样...
- 申请日：2023-9-18 申请号：：CN202311204145.9
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- 利用MALDI-TOF MS检测Cys C的样本处理方法及其应用
- 中文摘要：本发明公开利用MALDI?TOF MS检测Cys C的样本处理方法及其用途，所述方法包括：将含有待测Cys C和内标Cys C的混合液和抗Cys C抗体?磁珠接触，得到富集了待测Cys C和内标Cys C的抗原抗体?磁珠复合物；将所述抗原抗体?磁珠复合物进行洗脱处理，使待测Cys C和内标Cys C从所述抗原抗体?...
- 申请日：2023-9-18 申请号：：CN202311203747.2
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- 研究离子分子反应动力学的原位装置
- 中文摘要：本发明涉及样品离子分子气相反应相关动力学技术领域，尤其涉及一种研究离子分子反应动力学的原位装置，包括：主腔体组件；电喷雾离子源装置；离子漏斗装置，设置于主腔体组件，离子漏斗装置与电喷雾离子源装置相连接；引导装置，设置于主腔体组件；四极杆质量分析器，设置于主腔体组件；线性离子阱，设置于主腔体组件，气相离子与线性离子阱...
- 申请日：2023-9-15 申请号：：CN202311198994.8
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- 一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法
- 中文摘要：本申请涉及一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法，包括：双道O型密封圈法兰、分离规、复合真空计、高纯N2、四极质谱计、样品测试室、气体质量流量计、分子流导元件、十四烷标准物质、分子泵、干泵。本申请提出的一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法，能够消除所述四极质谱计...
- 申请日：2023-9-15 申请号：：CN202311195609.4
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- 校准剂在流动路径中与分析物到离子源的同轴引入
- 中文摘要：示例性实施例可以部署阀，该阀在到质谱仪(MS)的离子源的路径上与离开诸如液相色谱(LC)柱的流动相流源的流动同轴地引入校准剂的样品。 所述阀可以远程定位在分支上，所述分支具有与从流动相流的源引导至离子源的路径的接合处。 或者，所述阀可位于从流动相流的源到MS的离子源的流动路径上的直线上。可采用新颖的五端口阀设计。 ...
- 申请日：2023-9-15 申请号：：US18468380
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