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| - 刻蚀端检测装置
- 中文摘要：目的 : 该在线的基础上，以检测蚀刻端获得单独的光的发光强度，同时消除噪声分量从每个晶片的分光光度计波形。结构 : 所述各自的等离子体放电光束40被通过一个冷凝器冷凝的透镜10b和cyclicly取出到一个光谱仪11，用于所述的L-片上的晶片，所述蚀刻电极20通过旋转一个旋转镜10a的一个通过驱动一束光束收集器10...
- 申请日：1982-6-10 申请号：：JP57098537
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- 高-质量-范围双聚焦质量光谱仪
- 中文摘要：目的 : 以得到一个小的高-分辨率之前的磁-场--型双聚焦质量光谱仪，其是合适的用于分析的所述高分子量通过指定范围的两个偏转磁场中形成的角度和所述的离子轨道的半径一环形电场。结构 : 所述电场的离子入射端形成一圆弧所述内表面的离子轨道(所述上表面，其中所述图形被绘制)，该电场和所述的离子-放电端和所述的离子轨道e2...
- 申请日：1982-5-31 申请号：：JP57093665
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- 离子源装置在质量光谱仪
- 中文摘要：目的 : 以增加所述堵sensitibity和一质量光谱仪的分辨率由一个发射器的一大的部分使用一种离子导入孔挤压电极和该电极调节所述的插入位置和所述施加电压到所述电极，分别。结构 : 在该质谱仪的离子源装置与一个电离室11在其所述各个通过所述的电子轰击样品的方法和电离所述的场消除方法可以被切换，所述的电离该样品通过...
- 申请日：1982-5-22 申请号：：JP57086850
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- 质量光谱仪
- 中文摘要：目的 : 以得到一个质量光谱仪，其是未由该照射unrequired离子物质造成的损坏通过提供一个分支管，其引线的数目所述unrequired离子物质到一种分析器管和一个衬垫，其被不引起的损坏通过该照射通过所述unrequired离子物质作为请求。结构 : 由于bf2+离子10提出了在一个分支管13和照射在其底部14...
- 申请日：1982-5-19 申请号：：JP57083011
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- X-射线光电子光谱仪
- 中文摘要：目的 : 以获得本地信息如所述样品的表面上的元件的密度分布与一高分辨率的一个孔中形成一个电子入射狭缝的位置。结构 : X-射线从X-射线管7照射该样品的表面6和一个光电子束形成一个图像用于所述X-射线照射该样品区域在所述的表面6所述表面上的一孔-状狭缝2与一三极的圆柱形的静电电子透镜4。所述电子束被偏转，在所述方向...
- 申请日：1982-5-17 申请号：：JP57083664
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