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  • 显微镜装置和控制程序记录介质
  • 中文摘要:要解决的问题 : 以提供一显微镜装置能够抑制的影响的一个上\/断操作的一个环境控制器,以捕获的图像以所述最小,和一个程序的记录介质,其中控制所述操作所述显微镜装置。溶液 : 所述的显微镜装置包括 : 一显微镜主体; 一种培养装置,其被设置在所述显微镜和培养物的一个小区的一个级样品; 一个环境所述的控制器,用于保持所...
  • 申请日:2011-1-17    申请号::JP2011007014

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  • 自动校准扫描角棱镜型纳米级精密轴向定位全反射显微镜和可选的变照明深度伪全反射显微镜
  • 中文摘要:一种用于改进的VA-TIRFM显微镜的方法、设备和系统。 该方法包括通过精确控制每个激光相对于样品的呈现来自动控制一个或多个激光源的校准,以在临界TIR角的范围内实现入射角的小增量变化。 然后,校准允许对样品进行任何这些校准角度的精确扫描以获得更高且更精确的分辨率,并且允许对扫描进行更好的重建以获得样品的超分辨率重...
  • 申请日:2011-1-14    申请号::US13006739

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  • 受激发射损耗(STED)显微镜检查系统
  • 中文摘要:本发明公开了一种用于对对象(O)进行受激发射损耗(STED)的光学显微镜检查系统(10)。应用光学元件(6)将第一激励射束(1)和第二损耗(2)射束聚焦到对象上,由此界定针对第一射束和第二射束两者的公共光学路径(OP)。在公共光学路径(OP)中插入相位修改构件(5),所述相位修改构件以光学方式被布置成用于使所述第一...
  • 申请日:2011-1-13    申请号::CN201180005876.X

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  • 受激辐射耗尽(STED)显微镜系统
  • 中文摘要:本发明公开了一种用于物体(O)的受激发射耗尽(STED)的光学显微镜系统(10)。 应用光学元件(6)将第一激励光束(1)和第二耗尽光束(2)聚焦在物体上,从而为第一光束和第二光束限定公共光路(OP)。 相位修改构件(5)插入公共光路(OP)中,并且相位修改构件被光学地布置成使第一光束的波阵面基本上保持不变,并且用...
  • 申请日:2011-1-13    申请号::US13522038

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  • 光学部件,用于积分所述的光学显微术到所述原子力显微术保持最大所述原子力显微镜的性能。
  • 中文摘要:本发明涉及一种装置结合的原子力显微镜AFM技术具有光学成像技术。所述装置包括 : -一光源(48)和一个光检测器(50)用于光学成像一个样品(41); -一个样品夹持器(42)设置在所述光源和所述样品之间的所述的光路径,-一种AFM悬臂(40)用于测量该样品的形貌所述样品的铺设(41)上的一个侧保持器(42); A...
  • 申请日:2011-1-12    申请号::EP11305031

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