光刻系统使用一光学显微镜 中文摘要： 目的 : 利用所述的光学显微镜是提供一种光刻系统，其减少了所需要的时间和成本用于所述掩模生产和掩模过程。<\/P> 的结构 : 所述的光学显微镜部(10)所述光致抗蚀剂表面上聚焦的光施加所述顶部所述基板和执行的曝光通过使用所述光源的波长与光致抗蚀剂反应，。所述载物台部(20)被连接到该下部分所述的光学显微... 申请日：2008-1-8    申请号：：KR1020080002104   紫外线显微镜设备 中文摘要：要解决的问题 : 以显示一个图像，使得所观测的差异图像差异引起在所述照明光的波长带被高亮显示。溶液 : 一光源装置10产生的紫外线光。一摄像机14获得样品1的观察图像的成像样品1所述的图像其是与所述紫外照射光。一种图像处理单元19的一控制装置103产生一合成样品的观察图像1所述的基础上的多个所述样品的观察图像的1，... 申请日：2008-1-8    申请号：：JP2008000981   长度测量方法，通过扫描电子显微镜 中文摘要：要解决的问题 : 以一种扫描电子显微镜提供一种长度测量的方法，能够防止的一长度测量从被产生的误差通过所述样品的结构，一种类型的膜或该等。溶液 : 在该长度测量扫描电子显微镜所述的方法，该扫描电子显微镜被自动聚焦与一测量点，使用一种输出从一个传感器用于检测从物镜到所述样品的距离，和一个该样品从样品发出的信号的变化的同... 申请日：2008-1-7    申请号：：JP2008000264   原子力显微镜和交互式力测量方法利用原子力显微镜 中文摘要：一个频率偏移Δf获得从该FM-AFM可以通过一个简单的线性组合表示一个组件ΔFLR得到的从一个长的距离互动力和一部件从一个短的距离Δ得到的FSR互动力。因此，一个Δf曲线的一个原子上一样品表面上的缺陷和一个Δf曲线在一目标原子缺陷被测量的相对短的距离范围中(S1，S2)，分别，和它们之间的差Δf曲线是所寻求的。由于... 申请日：2008-1-7    申请号：：WOJP08000001   显微镜系统及其控制方法。 中文摘要：要解决的问题 : 以容易地决定最佳校正量的一个像差校正透镜。溶液 : 一显微镜系统是配备有 : 一样品观察或通过一个透明样品保持成像构件; 一物镜透镜配备与所述像差校正透镜用于校正一个厚度误差; 一种装置用于移动所述像差校正透镜; 一电机驱动聚焦部分，用于改变间隔; 一个成像透镜，用于获取所述样品的显微图像与所述物... 申请日：2008-1-7    申请号：：JP2008000253   总计： 14021 篇   首 页  上一页  下一页  末 页