目的 : 用于抗蚀剂的相关处理可以除去所述步骤和所述合适的分辨率可以被固定在通过形成一种薄膜图案使用所述原子力显微镜光刻技术。<\/P>
的结构 : 所述薄膜图案的制造方法使用所述原子力显微镜光刻技术被提供。一步骤是用于形成所述基板第一上的薄的膜(10)。步骤被用于形成第二上的薄膜用于该蚀刻掩模第一的薄膜...
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