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| - 探针开口制造装置及使用该装置的近场光学显微镜
- 中文摘要：本发明提供了一种用于在近场光学显微镜的掩模尖端处产生具有所需尺寸的开口的开口制造装置以及使用该装置的近场光学显微镜。 所述装置包括 : 光源116； 反射装置140； 光检测装置124； 按压装置128, 130将探针尖端按压在所述反射装置上； 存储装置142； 计算装置144从存储在所述存储装置中的校准信息计算出...
- 申请日：2004-3-10 申请号：：US10796089
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- 用于显微镜物镜改变装置
- 中文摘要：要解决的问题 : 以选择性地和快速移动的任何一个的多个目标到所述的位置的所述观测成像透镜的光学轴，以便精确地对准所述所选择的物镜的光轴与所观察的光学轴。溶液 : 该物镜改变装置2是配备有一支撑件11固定在透镜筒，一Y-轴滑块(第一滑块)13通过所述支撑部件11可移动地支撑在一Y-轴方向(Y)垂直于所述观测光学轴L，...
- 申请日：2004-3-9 申请号：：JP2004065844
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- 共焦显微镜
- 中文摘要：本发明其特征在于它是可能的是，以提供一个三-维共焦显微镜系统的配置，使得一物镜透镜可以被扫描在所述的光学轴方向使用一个致动器，以得到切片共焦的图像样本，其中所述致动器是使用一种扫描驱动波形信号，其是三角形或台阶状和具有被校正使得加速度是变化的不连续点处实际上保持恒定在该扫描波形信号，从而始终如一地提供该样...
- 申请日：2004-3-9 申请号：：EP04005573
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- 使用聚焦离子束处理的方法，纳米管探针，显微镜装置，和电子枪
- 中文摘要：要解决的问题 : 以达到高度精确和均匀的精细处理通过调整聚焦离子束照射能量或每处理一处理速度区域单元处理的样品具有一梯度时的深度和\/或一种处理一聚焦离子束照射的被处理的效率。溶液 : 该处理方法使用所述离子束组的一个区域具有一最大的平均处理的深度作为一初始处理区，当所处理的处理区域具有梯度的深度或处理效率; 和一...
- 申请日：2004-3-8 申请号：：JP2004064884
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- 扫描电子显微镜和加速度电压优化的方法在扫描电子显微镜
- 中文摘要：要解决的问题 : 以提高二维扫描电子显微镜检查的精度和重现性。溶液 : 各种电子束12与电子枪11上施加加速电压从一个加速电压施加装置13改变被照射，每个二次发射的电子从而从样品16是检测由一个二次电子检测装置19，每个检测到的对比度是由一个对比度检测装置22基于所述二次电子检测，和一个最佳的加速电压在其所述对比度...
- 申请日：2004-3-8 申请号：：JP2004064484
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