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| - 形成的原子力显微镜方法的尖端
- 中文摘要：本发明涉及一种用于形成硅原子力显微镜方法的尖端。该方法包括沉积所述的步骤一掩蔽层到第第一层的掺杂硅，以使得某些方形或矩形的区域第一层掺杂的硅被不覆盖由所述掩蔽层，蚀刻第一中的锥状孔层的掺杂硅，去除该掩模层，沉积一第二掺杂层的掺杂硅的硅在第一层，所述第二层掺杂的硅被相对掺杂的硅和蚀刻掉掺杂到第一层第一层的掺杂硅。进一...
- 申请日：2003-5-20 申请号：：KR1020047019753
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- 形成的原子力显微镜方法的尖端
- 中文摘要：本发明涉及一种用于形成硅原子力显微镜方法的尖端。该方法包括以下步骤 : 沉积一掩蔽层第一上的层掺杂的硅，使得一些正方形或矩形区域的第一层掺杂的硅被通过所述掩模层不覆盖，腐蚀锥状孔第一层中掺杂的硅，去除该掩模层，沉积第二层掺杂的硅在第一层的掺杂硅，第二层掺杂的硅被相对掺杂到第一层掺杂的硅和掺杂硅的蚀刻掉第一层。进一步...
- 申请日：2003-5-20 申请号：：WOSG03000119
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- 扫描光学显微镜
- 中文摘要：要解决的问题 : 提供一种扫描光学显微镜，其采用一种波前转换元件，具有小的离轴性能劣化和一个对象上施加很小的影响，以被观察到。溶液 : 该扫描光学显微镜是配备有一光源11，该波前转换元件2，它任选地将该波前通过所述光源所发出的照明光的，一种发光通量扫描装置3，其使一扫描与所述波前-转换的照明光从所述波前中的转换元件...
- 申请日：2003-5-19 申请号：：JP2003140033
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- 临界尺寸扫描电子显微镜
- 中文摘要：一种用于使用具有具有测量位置的校准标准的测量工具来确定样品上的结构的实际测量的系统。 使用测量工具测量具有第一已知度量的校准标准上的先前测量的位置，以产生第一测量。 利用测量工具测量校准标准上的新测量位置，该新测量位置也具有第二已知度量，以产生第二测量。 通过将第一测量值与第一已知度量值进行比较，并且将第二测量值与...
- 申请日：2003-5-19 申请号：：US10440826
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- 样品尺寸测量方法和扫描电子显微镜
- 中文摘要：尺寸造成的测量误差到所述的事实所引起的收缩量由所述与电子束扫描与图案变化被减小。一个函数表示所述的一种图案的尺寸变化时引起的电子束被施加到一种制备样品用于每种样品的图案。所述尺寸该图案的测量值通过扫描一特定图案与所述电子束被取代成该功能准备用于该特定图案，以计算该之前，所述特定图案的尺寸变化。
- 申请日：2003-5-19 申请号：：WOJP03006203
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