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真空处理装置的有孔内部部件的涂覆方法及利用该方法涂覆的有孔内部部件

发明专利

申请专利号：CN03157426.2

申请日期：2003.09.19

公开公告号：CN1492494

公开公告日：2004.04.28

主分类号：H01L21/68

分类号：H01L21/68;B23Q3/15;C23C14/00;C23C16/00

国际申请：

国际公布：

申请人：东京毅力科创株式会社

地址：日本东京都

发明设计人：武内顺;岸田正明;松永忠和;远藤昇佐

内容摘要：本发明提供一种真空处理装置中的有孔内部部件的涂覆方法，包括：用具有由金属材料构成的芯材(22)、由相对于涂覆膜(80)为非接合性的树脂材料和金属材料的复合体构成并且覆盖芯材(22)外周的金属-树脂复合层(24)的塞栓(20)，堵塞有孔内部部件(81)的小孔(78)的步骤A；在步骤A之后，在有孔内部部件(81)的表面上通过等离子体喷镀形成由陶瓷材料构成的涂覆膜(80)的步骤B；在步骤B之后，从小孔(78)拔取塞栓(20)的步骤C。由此解决了预先用塞栓堵塞小孔的技术问题，可以高效率地制造质量性能优异的涂覆膜。

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