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激光衰减器
发明专利

 
申请专利号:CN200410017493.6
申请日期:2004.04.06
公开公告号:CN1564076
公开公告日:2005.01.12
主分类号:G02F1/35
分类号:G02F1/35
国际申请:
国际公布:
申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
地址:201800上海市800-211邮政信箱
发明设计人:叶震寰;楼祺洪;董景星;魏运荣;凌磊
 
内容摘要:一种激光衰减器,包括:一个或一对镀有对入射角敏感的介质膜光学平板,介质膜设计为5°入射角时反射最大,而在40°时透射最大,从而大大提高介质膜破坏阈值;在吸收反射光的部分采用石墨材料或陶瓷材料,并视情况在衰减器的外部装上散热片。本发明设计简单,适用于对激光的功率衰减和调节。
 
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