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中低温烧结的温度稳定型多层陶瓷电容器陶瓷材料 |
发明专利 |
申请专利号:CN200410090868.1 |
申请日期:2004.11.16 |
公开公告号:CN1623955 |
公开公告日:2005.06.08 |
主分类号:C04B35/468 |
分类号:C04B35/468;C04B35/63 |
国际申请: |
国际公布: |
申请人:清华大学 |
地址:100084北京市100084-82信箱 |
发明设计人:王晓慧;陈仁政;马超;雷震;王浩;李龙土;桂治轮 |
内容摘要:本发明公开了中低温烧结的温度稳定型多层陶瓷电容器陶瓷材料。该材料的主要成分为钛酸钡,添加剂有氧化钴和氧化铌、或它们的化合物,氧化钇和稀土氧化物,金属银,氧化锌和氧化硼、或它们的化合物等。所用基料钛酸钡粉体粒径在100nm至500nm之间,烧成的陶瓷材料具有细晶结构,晶粒尺寸在100nm至600nm之间。利用本发明的材料组成和工艺可以获得性能优良、中低温烧结的X7R型多层陶瓷电容器材料。材料的室温介电常数可以控制在1800和5600之间,容温变化率≤±15%,烧结温度范围从900℃到1150℃。当烧结温度最低达到900℃时,使用纯银作为内电极,可以大幅度降低多层陶瓷电容器的成本。 |
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