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| 基板处理装置以及基板旋转装置 |
| 发明专利 |
| 申请专利号：CN200580028801.8 |
| 申请日期：2005.10.27 |
| 公开公告号：CN101010792 |
| 公开公告日：2007.08.01 |
| 主分类号：H01L21/683(2006. |
| 分类号：H01L21/683(2006.01)I |
| 国际申请：2005-10-27 PCT/JP2005/019795 |
| 国际公布：2006-05-04 WO2006/046649 日 |
| 申请人：东京毅力科创株式会社 |
| 地址：日本东京都 |
| 发明设计人：田中澄;铃木公贵 |
| 内容摘要：本发明提供一种为了大幅降低颗粒的产生量而进行改良后的基板旋转装置、以及具备该基板旋转装置的基板处理装置。基板旋转装置包括：直接或者间接地连接在基板支承体上的从动旋转体、例如从动环；和在与可动部件接触的状态下，进行旋转从而旋转驱动上述从动旋转体的驱动旋转体、例如，驱动转子。从动旋转体和驱动旋转体，由JIS R1607标准规定的破坏韧性的值以及/或者JIS R1601标准规定的三点弯曲强度的值不同的陶瓷材料构成。 |
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