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一种高性能热处理氮化硅陶瓷及其制备方法 |
发明专利 |
申请专利号:CN200610011115.6 |
申请日期:2006.01.06 |
公开公告号:CN1793043 |
公开公告日:2006.06.28 |
主分类号:C04B35/584(2006. |
分类号:C04B35/584(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C04B35/645(2006.01)I |
国际申请: |
国际公布: |
申请人:清华大学 |
地址:100084北京市北京100084-82信箱 |
发明设计人:李建保;郭钢锋;杨晓战;林 红;梁 龙;何明生 |
内容摘要:本发明涉及一种高性能热处理氮化硅陶瓷及其制备方法,属于陶瓷材料技术领域。本发明以氮化硅粉末和一定量的单一稀土氧化物添加剂为原料,混合均匀后成型,烧结使其致密化,再对其进行烧结后热处理。所述氮化硅陶瓷含有α相氮化硅粉末和单一稀土氧化物添加剂,所述α相氮化硅粉末的重量百分比为80~95%,所述单一稀土氧化物添加剂的重量百分比为5~20%。这种材料在完全没有添加预制的β-Si3N4晶种的情况下不但具有很高的室温强度而且在高温下其强度也很高,是一种制作轧辊,涡轮转子,燃烧室内壁,轴承,切割刀具,阀门,热处理夹具等零部件理想的高温结构材料,可广泛应用于冶金,化工,机械,航天及军事领域。 |
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