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一种聚硼硅氮烷先驱体的制备方法 |
发明专利 |
申请专利号:CN200710035733.9 |
申请日期:2007.09.13 |
公开公告号:CN101148358 |
公开公告日:2008.03.26 |
主分类号:C04B35/515(2006.01)I |
分类号:C04B35/515(2006.01)I |
国际申请: |
国际公布: |
申请人:中国人民解放军国防科学技术大学 |
地址:410073湖南省长沙市德雅路正街47号 |
发明设计人:王 军;唐 云;李效东;王 浩 |
内容摘要:一种聚硼硅氮烷先驱体的制备方法,其包括以下步骤:以硼卤烷、卤硅烷、烷基胺化合物为起始原料,按硼卤烷∶卤硅烷的摩尔比为1∶10- 10∶1,烷基胺过量的配比混合、反应,反应完成后将产物过滤,滤液即为低分子硼硅氮烷,然后将低分子硼硅氮烷在加热的条件下高分子化,降温后即得到聚硼硅氮烷先驱体。本发明选用的原料成本低廉,来源可靠,反应过程简单,并且有较高的合成产率;可以实现各元素的原子级水平的均匀分布,避免了后续陶瓷材料制备和使用过程中的不良影响;可以有效地调控先驱体的加工性能和物理性能。 |
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