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| 具有耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支架 |
| 发明专利 |
| 申请专利号：CN200710143809.X |
| 申请日期：2007.08.01 |
| 公开公告号：CN101118865 |
| 公开公告日：2008.02.06 |
| 主分类号：H01L21/683(2006.01)I |
| 分类号：H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C30B25/12(2006.01)I |
| 国际申请： |
| 国际公布： |
| 申请人：应用材料股份有限公司 |
| 地址：美国加利福尼亚州 |
| 发明设计人：珍妮弗·Y·孙;周爱琳 |
| 内容摘要：本发明的实施方式提供了一种具有增强耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支撑组件。在一个实施方式中，一种衬底支撑组件包括具有上衬底支撑表面的静电卡盘、和设置在静电卡盘上的保护层，其中保护层由包含稀土金属的陶瓷材料制成。 |
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