自动在过程同位素和质谱分析- 申请方：美塔莱公司 申请专利号：CN01822365.6. 2005.2.2
- 摘要：本发明公开了使用同位素稀释质谱分析法的修改型来在过程自动分析的一种方法和相关装置。它涉及元素和物质形成阈值测量，该测量为定量仪器检测极限及附近的质量保证而优化，并且能够在定量仪器检测极限及附近执行。该系统是自动的，并且可以用于无人操作来进行元素或物质污染物鉴定和定量。在该方法的优选方面，样本与至少一种添加浓缩稳定同...
- 光学保密图样打印系统
- 申请方：压印系统公司 申请专利号：CN01822627.2. 2005.07.13
- 摘要：一种用于产生并将可选择形状的形状光学保密图样印刷到基片表面上的数字印刷系统，其中所选择的形状可并入预先印刷出来的图案中。该系统包括用于产生可选择的形状的数字印刷机，包括有一批可选择承载预先印刷出来的光学保密图样的热敏箔片的箔片组件，用于向数字印刷机和基片表面之间施加压力的压力机构，和用于可共同操作地推进基片的推进机...
- 对电池充电的方法
- 申请方：布莱克和戴克公司 申请专利号：CN200410089992.6. 2005.04.06
- 摘要：一种对可充电电池组件充电的方法，包括识别电池容量，确定采样间隔长度，实现确定的采样间隔长度。也公开了对电池充电的方法，包括识别电池容量，确定占空度中电流接通期的长度，实现确定的电流接通期。还公开了电池充电装置，包括对第一和第二电池充电的充电器，第一电池包括微处理器。也公开了电池/充电器组合，它包括电池，微处理器放置...